專利規(guī)避設計常見問題解答

規(guī)避設計（Design Around），又稱回避設計，是指企業(yè)對涉及風險專利的產品或產品中的某些特征重新進行研發(fā)、設計，使其產品具有差異化的特征，能夠區(qū)別于風險專利的技術方案，從而消除風險專利的威脅。

 

簡而言之，就是對技術方案進行重新設計，以避免其侵害當前仍然有效的任一專利的保護范圍。

 

專利規(guī)避設計的積極意義

 

主要有以下四點：

 

1.法律上不會被判定侵權

 

2.商業(yè)上不會喪失競爭優(yōu)勢

 

3.技術上實現(xiàn)低成本研發(fā)

 

4.成果上形成自己的專利技術

 

常見原則

 

專利規(guī)避最初的目的是從法律的角度來繞開某項專利的保護范圍以避免專利權人進行侵權訴訟，專利規(guī)避是企業(yè)進行市場競爭的合法行為。因此首先對專利規(guī)避設計的實施方法做出回應的多源于法律學者，并隨著專利糾紛案件的不斷積累，總結與歸納出了相應的組件規(guī)避原則，主要是從刪除、替換、更改以及語義描述的變化等方面進行專利規(guī)避。

 

實際應用中專利規(guī)避設計可遵循的三點原則：

 

1.減少組件數(shù)量以滿足全面覆蓋原則。

 

2.使用替代的方法使被告主體不同于權利要求中指出的技術以防止字面侵權。

 

3.從方法/功能/結果上對構成要件進行實質性改變，以避免侵犯等同原則。

 

總結

 

專利規(guī)避設計原則是從侵權判斷的角度進行分析，根據(jù)權利要求書分析專利的必要技術特征，對其進行刪減和替代， 以減少侵權的可能性。

 

專利規(guī)避設計原則是宏觀層面上的指導方針，對設計人員來說，需要具體可以實施的過程來詳細指導如何在現(xiàn)有專利技術基礎上進行重組和替代，開發(fā)出新的技術方案繞開現(xiàn)有專利的保護范圍。功能裁剪作為有效的分析工具能夠指導設計人員進行技術分析，并結合專利規(guī)避設計原則選擇合理的技術進行刪除或替代，從根本上突破現(xiàn)有專利的技術壟斷。

 

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