創(chuàng)業(yè)者如何避開“知識產(chǎn)權(quán)”的坑,三個實例告訴你(一)

即使在國家大力發(fā)展知識產(chǎn)權(quán)保護的今天,由于對商標、著作權(quán)、專利等知識產(chǎn)權(quán)方面的認識不足,企業(yè)主踩坑事件仍在多次上演。李子柒與微念的品牌爭奪戰(zhàn),騰訊和今日頭條的著作權(quán)之爭,通信行業(yè)多起標準必要專利許可糾紛案等等。
 
由于忽視知識產(chǎn)權(quán)的保護,或是缺乏保護的意識,許多創(chuàng)業(yè)者常常將自己置于知識產(chǎn)權(quán)被侵犯,或侵犯他人知識產(chǎn)權(quán)而不自知的境地之中。不論是初創(chuàng)型公司,還是步向成熟的公司,在其各自的發(fā)展階段都將有不同的發(fā)力方向。那么在各階段,不同的公司應該如何順應發(fā)展方向,正確合理地布局知識產(chǎn)權(quán)呢?
 
本系列文章將通過不同創(chuàng)業(yè)型企業(yè)的3個實例,為各位普及說明“不同類型企業(yè)分別需要注意哪些知識產(chǎn)權(quán)問題”。
 
案例詳情
 
公司M類型:成熟配置;有核心技術(shù)的高精專產(chǎn)業(yè);有投資方;未來需要靠專利建立壁壘。
 
具體情況:
 
M公司屬于半導體芯片設計行業(yè),研發(fā)的芯片原以進口為主,現(xiàn)階段該芯片需要實現(xiàn)國產(chǎn)替代。投資人看重自主知識產(chǎn)權(quán)的保護,特別是為了配合未來公司上市的計劃,必然需要有一定量的自主知識產(chǎn)權(quán)。為了防患于未然,M公司成立時就預先部署了知識產(chǎn)權(quán)相關的保護計劃,配備了企業(yè)法務、專利工程師,并且有計劃地開展了專利挖掘和申請工作,除此之外還應該了解哪些知識產(chǎn)權(quán)的相關內(nèi)容呢?
 
建議
 
M公司身處一個充滿機遇與挑戰(zhàn)的行業(yè),近些年又逢國家大力支持發(fā)展的機遇,多家半導體企業(yè)相繼上市。然而無論在國內(nèi),還是國際,半導體行業(yè)都是知識產(chǎn)權(quán)訴訟多發(fā)的行業(yè),如果前期沒有做好防范和保護,后面將產(chǎn)生無法挽回的損失,輕者影響公司業(yè)績和營收,重者則可能沖擊公司的產(chǎn)業(yè)布局與上市的計劃。
 
首先,需要了解“職務發(fā)明”和“專利權(quán)屬糾紛”兩個問題。職務發(fā)明包括如下兩個方面:
 
一、執(zhí)行本單位任務所完成的發(fā)明創(chuàng)造,
 
1)發(fā)明人在本職工作中完成的發(fā)明創(chuàng)造;
 
2)履行本單位交付的與本職工作有關的任務時所完成的發(fā)明創(chuàng)造;
 
3)退職、退休或者調(diào)動工作后1年內(nèi)做出的、與其在原單位承擔的本職工作或者單位分配的任務有關的發(fā)明創(chuàng)造;
 
二、主要利用本單位的物質(zhì)條件(包括資金、設備、零部件、原材料或不向外公開的技術(shù)資料)完成的發(fā)明創(chuàng)造。因為M公司成立初期會大量招聘行業(yè)內(nèi)有經(jīng)驗的研發(fā)人員,并且短期內(nèi)就可能有技術(shù)產(chǎn)出,有專利申請的,需要避免該專利的發(fā)明人離開上家公司不到一年的時間問題,否則該專利可能被認定為職務發(fā)明,產(chǎn)生“專利權(quán)屬糾紛”,專利權(quán)就有可能被判定為發(fā)明人前東家。
 
其次,利用專利分析,助力企業(yè)專利挖掘與布局,及風險防范。
 
什么是專利挖掘與布局:
 
經(jīng)檢索分析現(xiàn)有技術(shù)及專利壁壘情況,從創(chuàng)新成果中提煉出具有專利申請和保護價值的技術(shù)創(chuàng)新點和方案,再綜合產(chǎn)業(yè)、市場、法律、技術(shù)等因素,以保護類型、申請類型、時間、地域等多種維度,有目的、有策略、有規(guī)劃地構(gòu)建專利組合,全面、充分、有效地保護公司的研發(fā)成果。因此,一款產(chǎn)品可能會有產(chǎn)品,方法,材料,工藝等多種維度的專利;又有發(fā)明,實用新型,外觀設計多種專利保護類型的專利組合。這樣的專利組合將會比單件,零散的專利發(fā)揮更大的價值。
 
什么是基于專利分析的風險防范呢?
 
從產(chǎn)品研發(fā)階段,到產(chǎn)品售賣之前,都需要注意產(chǎn)品的侵權(quán)排查。M公司的產(chǎn)品是實現(xiàn)進口替代,所以研發(fā)過程中不可避免借鑒國外技術(shù),研發(fā)階段通過侵權(quán)排查,可以做一些規(guī)避設計,避免產(chǎn)品設計成形后因涉及侵權(quán)而需要更改設計;產(chǎn)品上市前的侵權(quán)排查,是提前了解高風險,中風險,低風險的專利,如果能針對高風險專利做規(guī)避設計是最佳的,如果不行,可以儲備無效證據(jù),或者針對未授權(quán)的專利提第三方公眾意見阻礙其授權(quán)。
 
再次,公司成立初期就需要注重商標的注冊。首先企業(yè)字號、LOGO最好通過商標,版權(quán)進行保護,商標保護中,根據(jù)使用需求,選擇保護類別,提前預判授權(quán)通過率。商標申請類別,除了申請產(chǎn)品相關類別的核心商標,還得注重關聯(lián)商品(可能在未來需要退出的商品)以及防御商標的申請。最后,需要了解科創(chuàng)版上市對于知識產(chǎn)權(quán)的要求。
 
最后,需要了解下科創(chuàng)版上市對于知識產(chǎn)權(quán)的要求。2022.12.30發(fā)布關于修改《科創(chuàng)屬性評價指引(試行)》的決定,提出4項指標或5種情形:
 
支持和鼓勵同時符合下列 4 項指標的企業(yè)申報科創(chuàng)板上市
 
(1)最近三年研發(fā)投入占營業(yè)收入比例5%以上,或最近三年研發(fā)投入金額累計在 6000 萬元以上;
 
(2)研發(fā)人員占當年員工總數(shù)的比例不低于 10%;
 
(3)應用于公司主營業(yè)務的發(fā)明專利 5項以上;
 
(4)最近三年營業(yè)收入復合增長率達到20%,或最近一年營業(yè)收入金額達到 3 億元。
 
* 采用《上海證券交易所科創(chuàng)板股票上市規(guī)則》第 2.1.2 條第一款第(五)項規(guī)定的上市標準申報科創(chuàng)板的企業(yè),或按照《關于開展創(chuàng)新企業(yè)境內(nèi)發(fā)行股票或存托憑證試點的若干意見》等相關規(guī)則申報科創(chuàng)板的已境外上市紅籌企業(yè),可不適用上述第(4)項指標的規(guī)定;軟件行業(yè)不適用上述第(3)項指標的要求,研發(fā)投入占比應在 10%以上。
 
支持和鼓勵雖未達到前述指標,但符合下列情形之一的企業(yè)申報科創(chuàng)板上市:
 
(1)發(fā)行人擁有的核心技術(shù)經(jīng)國家主管部門認定具有國際領先、引領作用或者對于國家戰(zhàn)略具有重大意義;
 
(2)發(fā)行人作為主要參與單位或者發(fā)行人的核心技術(shù)人員作為主要參與人員,獲得國家科技進步獎、國家自然科學獎、國家技術(shù)發(fā)明獎,并將相關技術(shù)運用于公司主營業(yè)務;
 
(3)發(fā)行人獨立或者牽頭承擔與主營業(yè)務和核心技術(shù)相關的國家重大科技專項項目;
 
(4)發(fā)行人依靠核心技術(shù)形成的主要產(chǎn)品(服務),屬于國家鼓勵、支持和推動的關鍵設備、關鍵產(chǎn)品、關鍵零部件、關鍵材料等,并實現(xiàn)了進口替代;
 
(5)形成核心技術(shù)和應用于主營業(yè)務的發(fā)明專利(含國防專利)合計 50 項以上。
 
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最后更新時間:2023-10-10 閱讀:50次

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